在碳化硅晶圓切割領域，由于材料硬度高達莫氏 9 級，傳統(tǒng)切割方式面臨效率低下的問題。中清航科創(chuàng)新采用超高壓水射流與激光復合切割技術，利用水射流的冷卻作用抑制激光切割產生的熱影響區(qū)，同時借助激光的預熱作用降低材料強度，使碳化硅晶圓的切割效率提升 3 倍，熱影響區(qū)控制在 10μm 以內。晶圓切割設備的可靠性是大規(guī)模生產的基礎保障。中清航科對中心部件進行嚴格的可靠性測試，其中激光振蕩器經過 10 萬小時連續(xù)運行驗證，機械導軌的壽命測試達到 200 萬次往復運動無故障。設備平均無故障時間（MTBF）突破 1000 小時，遠超行業(yè) 800 小時的平均水平，為客戶提供穩(wěn)定可靠的生產保障。針對碳化硅晶圓，中清航科激光改質切割技術突破硬度限制。江蘇藍寶石晶圓切割代工廠

晶圓切割是半導體封裝的中心環(huán)節(jié)，傳統(tǒng)刀片切割通過金剛石砂輪實現材料分離。中清航科研發(fā)的超薄刀片（厚度15-20μm）結合主動冷卻系統(tǒng)，將切割道寬度壓縮至30μm以內，崩邊控制在5μm以下。我們的高剛性主軸技術可適配8/12英寸晶圓，切割速度提升40%，為LED、MEMS器件提供經濟高效的解決方案。針對超薄晶圓（<50μm）易碎裂難題，中清航科激光隱形切割系統(tǒng)采用紅外脈沖激光在晶圓內部形成改性層，通過擴張膜實現無應力分離。該技術消除機械切割導致的微裂紋，良率提升至99.3%，尤其適用于存儲芯片、CIS等器件，助力客戶降低材料損耗成本。嘉興12英寸半導體晶圓切割刀片切割粉塵回收模塊中清航科集成，重金屬污染減排90%以上。

隨著 Chiplet 技術的興起，晶圓切割需要更高的位置精度以保證后續(xù)的異構集成。中清航科開發(fā)的納米級定位切割系統(tǒng)，采用氣浮導軌與光柵尺閉環(huán)控制，定位精度達到 ±0.1μm，配合雙頻激光干涉儀進行實時校準，確保切割道位置與設計圖紙的偏差不超過 0.5μm，為 Chiplet 的高精度互聯奠定基礎。中清航科深諳半導體設備的定制化需求，可為客戶提供從工藝驗證到設備交付的全流程服務。其技術團隊會深入了解客戶的晶圓規(guī)格、材料特性與產能要求，定制專屬切割方案，如針對特殊異形 Die 的切割路徑優(yōu)化、大尺寸晶圓的分片切割策略等，已成功為多家頭部半導體企業(yè)完成定制化項目交付。

中清航科創(chuàng)新性推出“激光預劃+機械精切”復合方案：先以激光在晶圓表面形成引導槽，再用超薄刀片完成切割。此工藝結合激光精度與刀切效率，解決化合物半導體（如GaAs、SiC）的脆性開裂問題，加工成本較純激光方案降低35%。大尺寸晶圓切割面臨翹曲變形、應力集中等痛點。中清航科全自動切割機配備多軸聯動補償系統(tǒng)，通過實時監(jiān)測晶圓形變動態(tài)調整切割參數。搭配吸附托盤，將12英寸晶圓平整度誤差控制在±2μm內，支持3D NAND多層堆疊結構加工。晶圓切割后分選設備中清航科集成方案，效率達6000片/小時。

面向磁傳感器制造，中清航科開發(fā)超導磁懸浮切割臺。晶圓在強磁場（0.5T）下懸浮，消除機械接觸應力，切割后磁疇結構畸變率<0.3%，靈敏度波動控制在±0.5%。中清航科電化學回收裝置從切割廢水中提取金/銅/錫等金屬，純度達99.95%。單條產線年回收貴金屬價值超$80萬，回收水符合SEMI F78標準，實現零廢液排放。針對HJT電池脆弱電極層，中清航科采用熱激光控制技術（LCT）。紅外激光精確加熱切割區(qū)至200℃，降低材料脆性，電池效率損失<0.1%，碎片率控制在0.2%以內。

中清航科切割液回收系統(tǒng)降低耗材成本35%，符合綠色制造。江蘇藍寶石晶圓切割代工廠

為提升芯片產出量，中清航科通過刀片動態(tài)平衡控制+激光輔助定位，將切割道寬度從50μm壓縮至15μm。導槽設計減少材料浪費，使12英寸晶圓有效芯片數增加18%，明顯降低單顆芯片制造成本。切割產生的亞微米級粉塵是電路短路的元兇。中清航科集成靜電吸附除塵裝置，在切割點10mm范圍內形成負壓場，配合離子風刀清理殘留顆粒，潔凈度達Class 1標準（>0.3μm顆粒<1個/立方英尺）。中清航科設備內置AOI（自動光學檢測）模塊，采用多光譜成像技術實時識別崩邊、微裂紋等缺陷。AI算法在0.5秒內完成芯片級判定，不良品自動標記，避免后續(xù)封裝資源浪費，每年可為客戶節(jié)省品質成本超百萬。江蘇藍寶石晶圓切割代工廠