Nanoscribe雙光子灰度光刻系統(tǒng)QuantumX,Nanoscribe的全球頭一次創(chuàng)建的工業(yè)級(jí)雙光子灰度光刻無(wú)掩模光刻系統(tǒng)QuantumX，適用于制造微光學(xué)衍射以及折射元件。Nanoscribe的全球頭一次創(chuàng)建工業(yè)級(jí)雙光子灰度光刻無(wú)掩模光刻系統(tǒng)QuantumX，適用于制造微光學(xué)衍射以及折射元件。利用Nanoscribe的雙光子聚合微納3D打印技術(shù)，斯圖加特大學(xué)和阿德萊德大學(xué)的研究人員聯(lián)手澳大利亞醫(yī)學(xué)研究中心的科學(xué)家們新研發(fā)的微型內(nèi)窺鏡。將12050微米直徑的微光學(xué)器件直接打印在光纖上，構(gòu)建了一款功能齊全的超薄像差校正光學(xué)相干斷層掃描探頭。這是迄今有報(bào)道的尺寸低值排名優(yōu)先的自由曲面3D成像探頭，包括導(dǎo)管鞘在內(nèi)的直徑只為0.457mm。歡迎咨詢(xún)想要了解雙光子無(wú)掩模光刻技術(shù)在微納醫(yī)學(xué)中的應(yīng)用，請(qǐng)關(guān)注Nanoscribe中國(guó)分公司-納糯三維。雙光子聚合無(wú)掩膜光刻PPGT

QuantumXshape技術(shù)特點(diǎn)概要：快速原型制作，高精度，高設(shè)計(jì)自由度，簡(jiǎn)易明了的工程流程；工業(yè)驗(yàn)證的晶圓級(jí)批量生產(chǎn)；200個(gè)標(biāo)準(zhǔn)結(jié)構(gòu)的通宵產(chǎn)量；通用及專(zhuān)門(mén)使用的打印材料；兼容自主及第三方打印材料QuantumXshape是Nanoscribe推出的全新高精度3D打印系統(tǒng)，用于快速原型制作和晶圓級(jí)批量生產(chǎn)，以充分挖掘3D微納加工在科研和工業(yè)生產(chǎn)領(lǐng)域的潛力。該系統(tǒng)是基于雙光子聚合技術(shù)（2PP）的專(zhuān)業(yè)激光直寫(xiě)系統(tǒng)，可為亞微米精度的2.5D和3D物體的微納加工提供極高的設(shè)計(jì)自由度。QuantumXshape可實(shí)現(xiàn)在6英寸的晶圓片上進(jìn)行高精度3D微納加工。雙光子聚合無(wú)掩膜光刻PPGTNanoscribe中國(guó)分公司-納糯三維科技（上海）有限公司邀您一起探討雙光子無(wú)掩模光刻技術(shù)的運(yùn)用。

為了探索待測(cè)物微納米表面形貌，探針掃描成像技術(shù)一直是理論研究和實(shí)驗(yàn)項(xiàng)目。然而，由于掃描探針受限于傳統(tǒng)加工工藝，在組成材料和幾何構(gòu)造等方面在過(guò)去幾十年中沒(méi)有明顯的研究進(jìn)展，這也限制了基于力傳感反饋的測(cè)量性能。如何減少甚至避免因此帶來(lái)的柔軟樣品表面的形變，以實(shí)現(xiàn)對(duì)原始表面的精確成像一直是一個(gè)重要議題。Nanoscribe公司的系列產(chǎn)品是基于雙光子聚合原理的高精度微納3D打印系統(tǒng)，雙光子聚合技術(shù)是實(shí)現(xiàn)微納尺度3D打印有效的技術(shù)，其打印物體的特別小特征尺寸可達(dá)亞微米級(jí)，并可達(dá)到光學(xué)質(zhì)量表面的要求。NanoscribePhotonicProfessionalGT2使用雙光子聚合(2PP)來(lái)產(chǎn)生幾乎任何3D形狀：晶格、木堆型結(jié)構(gòu)、自由設(shè)計(jì)的圖案、順滑的輪廓、銳利的邊緣、表面的和內(nèi)置倒扣以及橋接結(jié)構(gòu)。PhotonicProfessionalGT2結(jié)合了設(shè)計(jì)的靈活性和操控的簡(jiǎn)潔性，以及普遍的材料-基板選擇。因此，它是一個(gè)理想的科學(xué)儀器和工業(yè)快速成型設(shè)備，適用于多用戶(hù)共享平臺(tái)和研究實(shí)驗(yàn)室。

QuantumXshape是Nanoscribe推出的全新高精度3D打印系統(tǒng)，用于快速原型制作和晶圓級(jí)批量生產(chǎn)，以充分挖掘3D微納加工在科研和工業(yè)生產(chǎn)領(lǐng)域的潛力。該系統(tǒng)是基于雙光子聚合技術(shù)（2PP）的專(zhuān)業(yè)激光直寫(xiě)系統(tǒng)，可為亞微米精度的2.5D和3D物體的微納加工提供極高的設(shè)計(jì)自由度。QuantumXshape可實(shí)現(xiàn)在6英寸的晶圓片上進(jìn)行高精度3D微納加工。這種效率的提升對(duì)于晶圓級(jí)批量生產(chǎn)尤其重要，這對(duì)于科研和工業(yè)生產(chǎn)領(lǐng)域應(yīng)用有著重大意義。全新QuantumXshape作為Nanoscribe工業(yè)級(jí)無(wú)掩膜光刻系統(tǒng)QuantumX產(chǎn)品系列的第二臺(tái)設(shè)備，可實(shí)現(xiàn)在25cm2面積內(nèi)打印任何結(jié)構(gòu)，很大程度推動(dòng)了生命科學(xué)，微流體，材料工程學(xué)中復(fù)雜應(yīng)用的快速原型制作無(wú)掩膜光刻技術(shù)正成為微電子行業(yè)的重要支柱。

QuantumXshape作為理想的快速成型制作工具，可實(shí)現(xiàn)通過(guò)簡(jiǎn)單工作流程進(jìn)行高精度和高設(shè)計(jì)自由度的制作。作為2019年推出的頭一臺(tái)雙光子灰度光刻(2GL®)系統(tǒng)QuantumX的同系列產(chǎn)品，QuantumXshape提升了3D微納加工能力，即完美平衡精度和速度以實(shí)現(xiàn)高精度增材制造，以達(dá)到高水平的生產(chǎn)力和打印質(zhì)量。總而言之，工業(yè)級(jí)QuantumX打印系統(tǒng)系列提供了從納米到中觀尺寸結(jié)構(gòu)的非常先進(jìn)的微制造工藝，適用于晶圓級(jí)批量加工。作為全球頭一臺(tái)雙光子灰度光刻激光直寫(xiě)系統(tǒng)，QuantumX可以打印出具有出色形狀精度和光學(xué)質(zhì)量表面的高精度微納光學(xué)聚合物母版，可適用于批量生產(chǎn)的流水線工業(yè)程序，例如注塑，熱壓花和納米壓印等加工流程，從而拓展微納加工工業(yè)領(lǐng)域的應(yīng)用。2GL與這些批量生產(chǎn)流水線工業(yè)程序的結(jié)合得益于新技術(shù)的亞微米分辨率和靈活性的特點(diǎn)，同時(shí)縮短創(chuàng)新微納光學(xué)器件（如衍射和折射光學(xué)器件）的整體制造時(shí)間。Photonic Professional GT2雙光子無(wú)掩模光刻系統(tǒng)的設(shè)計(jì)多功能性可以實(shí)現(xiàn)微機(jī)械元件的制作。湖南超高速無(wú)掩膜光刻三維光刻

更多有關(guān)3D雙光子無(wú)掩模光刻技術(shù)和產(chǎn)品，請(qǐng)咨詢(xún)Nanoscribe中國(guó)分公司-納糯三維科技（上海）有限公司。雙光子聚合無(wú)掩膜光刻PPGT

Nanoscribe一直致力于推動(dòng)各個(gè)科研領(lǐng)域，諸如力學(xué)超材料，微納機(jī)器人，再生醫(yī)學(xué)工程，微光學(xué)等創(chuàng)新領(lǐng)域的研究和發(fā)展，并提供優(yōu)化制程方案。2017年在上海成立的中國(guó)子公司納糯三維科技（上海）有限公司更是加強(qiáng)了全球銷(xiāo)售活動(dòng)，并完善了亞太地區(qū)客戶(hù)服務(wù)范圍。此次推出的中文版官網(wǎng)在視覺(jué)效果上更清晰，結(jié)構(gòu)分類(lèi)上更明確。首頁(yè)導(dǎo)航欄包括了產(chǎn)品信息，產(chǎn)品應(yīng)用數(shù)據(jù)庫(kù)，公司資訊和技術(shù)支持幾大專(zhuān)欄。比較大化滿(mǎn)足用戶(hù)對(duì)信息的了解和需求。Nanoscribe中國(guó)子公司總經(jīng)理崔博士表示：“中文網(wǎng)站的發(fā)布是件值得令人高興的事情，我們希望新的中文網(wǎng)站能讓我們的中國(guó)客戶(hù)無(wú)需顧慮語(yǔ)言障礙，更全方面深入得了解我們的產(chǎn)品以及在科研和工業(yè)方面的應(yīng)用?！彪p光子聚合無(wú)掩膜光刻PPGT