清潔各種高功率光纖連接器和其他組件光學(xué)元件清潔、光學(xué)涂層制備/清潔光電傳感器和醫(yī)療設(shè)備清潔半導(dǎo)體和生物醫(yī)學(xué)組件表面清潔。應(yīng)用場(chǎng)景：汽車(chē)涂裝線(xiàn)，化妝品包材涂裝線(xiàn)，半導(dǎo)體涂裝線(xiàn)等。*系統(tǒng)主要由液態(tài)CO2儲(chǔ)罐，增壓設(shè)備，耐高壓耐低溫管路，雪花清洗控制系統(tǒng)，機(jī)器人（往復(fù)機(jī)），噴嘴模塊等組成。*根據(jù)客戶(hù)產(chǎn)品清洗需求不同，酷爾森coulson雪花清洗系統(tǒng)噴嘴模塊數(shù)量可分單噴嘴模塊和多噴嘴模塊，以適應(yīng)不同產(chǎn)品形狀和不同節(jié)拍的需求。*獨(dú)特的噴嘴設(shè)計(jì)，使設(shè)備運(yùn)行不堵塞、不結(jié)露、清洗能力強(qiáng)，運(yùn)行穩(wěn)定無(wú)間隔等特點(diǎn)，特別適合汽車(chē)零部件，化妝品包材等產(chǎn)品的表面清潔。采用干冰清洗，功能穩(wěn)定可靠，清潔質(zhì)量?jī)?yōu)。流程嚴(yán)謹(jǐn)有序，優(yōu)勢(shì)突出。廣東全氣動(dòng)干冰清洗賣(mài)價(jià)

潔凈室環(huán)境與管道清潔潔凈室地面、墻面：去除表面的微塵（≥0.5μm 顆粒需控制在每立方英尺≤1 個(gè)），干冰清洗無(wú)二次揚(yáng)塵（CO?氣體可帶走粉塵），符合潔凈室 “零微粒擴(kuò)散” 要求。工藝管道（如高純氣體管道、真空管道）：去除管道內(nèi)的氧化層、焊渣殘留，避免氣體輸送時(shí)污染物脫落污染晶圓?？釥柹璱cestorm干冰清洗在半導(dǎo)體行業(yè)的**優(yōu)勢(shì)無(wú)殘留污染：干冰（固態(tài) CO?）升華后變?yōu)闅怏w，無(wú)液體、固體殘留，徹底避免傳統(tǒng)化學(xué)清洗（如 HF、SC1/SC2 洗液）帶來(lái)的離子污染（Na?、K?等金屬離子會(huì)導(dǎo)致芯片漏電）。無(wú)損保護(hù)精密部件：通過(guò)參數(shù)化控制（顆粒大小 3μm-5mm、壓力 0.05-0.8MPa），可適配從納米級(jí)光罩到毫米級(jí)模具的清潔需求，避免機(jī)械劃傷或化學(xué)腐蝕（如鋁焊盤(pán)耐腐蝕性差，無(wú)法用酸性清洗劑）。適配 “惰性環(huán)境” 需求：CO?是惰性氣體，不與半導(dǎo)體材料（硅、金屬、陶瓷）反應(yīng)，尤其適合光刻、沉積等 “禁化學(xué)物質(zhì)” 的工藝環(huán)節(jié)。提升生產(chǎn)效率：支持在線(xiàn)清潔（如刻蝕腔體可在工藝間隙清潔，無(wú)需停機(jī)拆解），傳統(tǒng)腔體清洗需 4-8 小時(shí)，干冰清洗可縮短至 30 分鐘內(nèi)，設(shè)備稼動(dòng)率提升 20% 以上。廣東全氣動(dòng)干冰清洗賣(mài)價(jià)利用干冰清洗，功能表現(xiàn)出色，清潔不留痕跡。流程便捷高效，優(yōu)勢(shì)眾多。

樹(shù)脂砂模具清潔痛點(diǎn)：傳統(tǒng)人工鏟刮易劃傷型腔，高壓水槍導(dǎo)致銹蝕。方案：干冰穿透狹窄排氣孔和分型面縫隙，去除固化樹(shù)脂砂，單人效率提升3倍。優(yōu)勢(shì)：無(wú)水分殘留，避免模具銹蝕，鑄造車(chē)間單班產(chǎn)量***增加。4. 精密模具維護(hù)場(chǎng)景：醫(yī)療器械、光學(xué)透鏡模具的鑲件和頂針清潔。方案：非接觸式清洗避免機(jī)械損傷，朝日干冰系統(tǒng)實(shí)現(xiàn)24小時(shí)自動(dòng)化清洗PCB板及精密部件。實(shí)操技巧與注意事項(xiàng)參數(shù)調(diào)優(yōu)：鋁合金模具壓力0.3-0.5MPa，鋼制模具0.5-0.7MPa；噴射距離10-20cm，斜角清洗凹槽死角。分區(qū)操作：按“易→難→敏感”順序清洗，精密區(qū)用低壓模式。維護(hù)結(jié)合：清洗后立即防銹處理（如噴涂防銹油）；定期三坐標(biāo)檢測(cè)模具精度，匹配干冰保養(yǎng)周期5。安全防護(hù)：操作員需穿戴防寒手套、護(hù)目鏡，作業(yè)區(qū)通風(fēng)防CO?聚集。行業(yè)趨勢(shì)展望自動(dòng)化集成。綠色制造：干冰清洗助力“雙碳”目標(biāo)，替代高污染工藝（如化學(xué)浸泡）。本土品牌（酷爾森、coulson）市占率提升，成本降低30%以上。干冰清洗技術(shù)正重塑模具維護(hù)標(biāo)準(zhǔn)——以 “零損傷、即洗即用” 為**，推動(dòng)制造業(yè)向高效綠色升級(jí)。企業(yè)引入時(shí)需結(jié)合自身模具類(lèi)型與產(chǎn)線(xiàn)特點(diǎn)，優(yōu)先選擇具備自動(dòng)化適配能力的設(shè)備，以比較大化投資回報(bào)。

典型應(yīng)用場(chǎng)景與材料適配性精密零部件：電子產(chǎn)品：手機(jī)/電腦散熱板毛刺、鏡頭邊緣（昌盛電子**）。模具：注塑/壓鑄模具的復(fù)雜溝槽（T微顆粒覆蓋技術(shù)）。特殊材料：軟性材料：塑膠、皮革（避免刮傷）。熱敏材料：食品包裝（低溫不破壞結(jié)構(gòu)）。行業(yè)案例：汽車(chē)工業(yè)：發(fā)動(dòng)機(jī)零件去毛刺（育航設(shè)備）。食品制藥：設(shè)備清潔與毛刺同步處理?？釥柹璫oulson干冰清洗在去毛刺應(yīng)用中兼具精度高、零損傷和環(huán)保性，尤其適合精密制造、電子及食品行業(yè)。選型時(shí)需關(guān)注：精密工件→選擇微顆粒機(jī)型；自動(dòng)化產(chǎn)線(xiàn)→集成機(jī)械手設(shè)備；小批量靈活作業(yè)→或酷爾森小型機(jī)。技術(shù)趨勢(shì)：2024-2025年新**集中于自動(dòng)化集成（如翻轉(zhuǎn)料盤(pán)、機(jī)器人協(xié)同）和防污染設(shè)計(jì)（食品級(jí)防護(hù)），未來(lái)將進(jìn)一步提升效率與安全性?？蓛?yōu)先關(guān)注擁有專(zhuān)利技術(shù)的廠(chǎng)商設(shè)備干冰清洗功能多樣，滿(mǎn)足不同清潔需求。流程高效，優(yōu)勢(shì)促進(jìn)清潔發(fā)展。

coulson干冰清洗技術(shù)在冶金行業(yè)中扮演著越來(lái)越重要的角色，因?yàn)樗峁┝艘环N高效、環(huán)保、無(wú)損且無(wú)需拆卸設(shè)備的清潔解決方案，特別適合應(yīng)對(duì)冶金生產(chǎn)環(huán)境中的頑固污垢、油漬、積碳、殘留物、氧化物（如鐵銹）和粉塵等。以下是干冰清洗在冶金行業(yè)的主要應(yīng)用場(chǎng)景和優(yōu)勢(shì)：軋制設(shè)備清潔：應(yīng)用對(duì)象： 軋輥（工作輥、支撐輥）、導(dǎo)衛(wèi)裝置、輥道、傳送帶、剪切設(shè)備、冷卻水噴嘴。問(wèn)題： 軋輥表面粘附氧化鐵皮、潤(rùn)滑油/脂殘留、金屬粉塵；導(dǎo)衛(wèi)和輥道積累油泥、氧化皮；噴嘴堵塞。干冰優(yōu)勢(shì)： 高效去除粘附物，恢復(fù)軋輥表面狀態(tài)和摩擦系數(shù)，提高軋制板材表面質(zhì)量（減少劃痕、壓痕）。清潔導(dǎo)衛(wèi)和輥道保證帶鋼順暢運(yùn)行。疏通噴嘴提高冷卻效率。無(wú)水，避免水進(jìn)入軸承或電氣系統(tǒng)造成損壞或銹蝕。鑄造設(shè)備清潔：應(yīng)用對(duì)象： 澆注系統(tǒng)（流槽、澆包）、鑄型（砂型、金屬型）、冷鐵、拋丸/噴砂設(shè)備、鑄件清理線(xiàn)設(shè)備。問(wèn)題： 澆包內(nèi)殘留熔融金屬或渣；鑄型表面殘留涂料、砂子；設(shè)備上積累型砂、粉塵、殘留粘結(jié)劑、拋丸介質(zhì)。干冰優(yōu)勢(shì)： 快速清理澆包內(nèi)殘留物。清潔鑄型表面不損傷型腔細(xì)節(jié)。去除拋丸設(shè)備內(nèi)部的粉塵和殘留物，提高設(shè)備效率和介質(zhì)回收率。清潔鑄件清理設(shè)備本身。干冰清洗功能強(qiáng)大無(wú)比，清潔快速?gòu)氐?。流程便捷科學(xué)，優(yōu)勢(shì)明顯。廣東全氣動(dòng)干冰清洗賣(mài)價(jià)

利用干冰清洗，功能優(yōu)異突出，清潔力度恰到好處。流程規(guī)范有序，優(yōu)勢(shì)多多。廣東全氣動(dòng)干冰清洗賣(mài)價(jià)

在半導(dǎo)體行業(yè)，生產(chǎn)環(huán)境（如 Class 1 級(jí)潔凈室）和產(chǎn)品（晶圓、芯片、精密部件）對(duì) “零污染、無(wú)損傷、超高潔凈度” 的要求堪稱(chēng)工業(yè)領(lǐng)域**嚴(yán)苛標(biāo)準(zhǔn)之一?？釥柹璱cestorm干冰清洗憑借無(wú)殘留、化學(xué)惰性、低溫?zé)o損、適配精密場(chǎng)景等特性，成為解決半導(dǎo)體生產(chǎn)中 “微污染物去除、設(shè)備維護(hù)、產(chǎn)品良率提升” 的關(guān)鍵技術(shù)。其**應(yīng)用場(chǎng)景覆蓋晶圓制造、封裝測(cè)試及設(shè)備維護(hù)全流程，具體如下：一、晶圓制造環(huán)節(jié)：從光刻到沉積 / 刻蝕的精密清潔晶圓（硅片、化合物半導(dǎo)體晶圓）是半導(dǎo)體的**基材，其表面及生產(chǎn)設(shè)備的潔凈度直接決定芯片的良率（每片晶圓含數(shù)百個(gè)芯片，一個(gè)微米級(jí)雜質(zhì)可能導(dǎo)致整片失效）。干冰清洗在以下關(guān)鍵工序中發(fā)揮不可替代的作用：1. 光刻掩模版（光罩）清潔清潔對(duì)象：光刻掩模版（表面鍍鉻層、石英基底）、光罩盒（Pod）。污染問(wèn)題：光罩是光刻圖案的 “母版”，表面若殘留納米級(jí)顆粒（≤0.1μm）、有機(jī)污染物（如光刻膠殘?jiān)?、金屬離子，會(huì)導(dǎo)致光刻圖案轉(zhuǎn)移時(shí)出現(xiàn)缺陷（如線(xiàn)寬偏差、圖形畸變），直接降低芯片良率。傳統(tǒng)清潔（如兆聲波清洗、化學(xué)濕法清洗）可能引入水分殘留或劃傷鍍鉻層（厚度*數(shù)十納米）。廣東全氣動(dòng)干冰清洗賣(mài)價(jià)