針對(duì)晶圓切割過(guò)程中的靜電防護(hù)問(wèn)題，中清航科的設(shè)備采用全流程防靜電設(shè)計(jì)。從晶圓上料的導(dǎo)電吸盤到切割區(qū)域的離子風(fēng)扇，再到下料區(qū)的防靜電輸送軌道，形成完整的靜電防護(hù)體系，將設(shè)備表面靜電電壓控制在 50V 以下，有效避免靜電對(duì)敏感芯片造成的潛在損傷。中清航科的晶圓切割設(shè)備具備強(qiáng)大的數(shù)據(jù)分析能力，內(nèi)置數(shù)據(jù)挖掘模塊可對(duì)歷史切割數(shù)據(jù)進(jìn)行深度分析，識(shí)別影響切割質(zhì)量的關(guān)鍵因素，如環(huán)境溫度波動(dòng)、晶圓批次差異等，并自動(dòng)生成工藝優(yōu)化建議。通過(guò)持續(xù)的數(shù)據(jù)積累與分析，幫助客戶不斷提升切割工藝水平，實(shí)現(xiàn)持續(xù)改進(jìn)。切割冷卻液在線凈化裝置中清航科研發(fā)，雜質(zhì)濃度自動(dòng)控制＜1ppm。鎮(zhèn)江12英寸半導(dǎo)體晶圓切割寬度

中清航科注重與科研機(jī)構(gòu)的合作創(chuàng)新，與國(guó)內(nèi)多所高校共建半導(dǎo)體切割技術(shù)聯(lián)合實(shí)驗(yàn)室。圍繞晶圓切割的前沿技術(shù)開(kāi)展研究，如原子層切割、超高頻激光切割等，已申請(qǐng)發(fā)明專利 50 余項(xiàng)，其中 “一種基于飛秒激光的晶圓超精細(xì)切割方法” 獲得國(guó)家發(fā)明專利金獎(jiǎng)，推動(dòng)行業(yè)技術(shù)進(jìn)步。晶圓切割設(shè)備的軟件系統(tǒng)是其智能化的中心，中清航科自主開(kāi)發(fā)了切割控制軟件，具備友好的人機(jī)交互界面與強(qiáng)大的功能。支持多種格式的晶圓版圖文件導(dǎo)入，可自動(dòng)生成切割路徑，同時(shí)提供離線編程功能，可在不影響設(shè)備運(yùn)行的情況下完成新程序的編制與模擬，提高設(shè)備利用率。南通碳化硅陶瓷晶圓切割劃片晶圓切割后分選設(shè)備中清航科集成方案，效率達(dá)6000片/小時(shí)。

晶圓切割作為半導(dǎo)體制造流程中的關(guān)鍵環(huán)節(jié)，直接影響芯片的良率與性能。中清航科憑借多年行業(yè)積淀，研發(fā)出高精度激光切割設(shè)備，可實(shí)現(xiàn)小切割道寬達(dá) 20μm，滿足 5G 芯片、車規(guī)級(jí)半導(dǎo)體等領(lǐng)域的加工需求。其搭載的智能視覺(jué)定位系統(tǒng)，能實(shí)時(shí)校準(zhǔn)晶圓位置偏差，將切割精度控制在 ±1μm 以內(nèi)，為客戶提升 30% 以上的生產(chǎn)效率。在半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)快速迭代的當(dāng)下，晶圓材料呈現(xiàn)多元化趨勢(shì)，從傳統(tǒng)硅基到碳化硅、氮化鎵等寬禁帶半導(dǎo)體，切割工藝面臨更大挑戰(zhàn)。中清航科針對(duì)性開(kāi)發(fā)多材料適配切割方案，通過(guò)可調(diào)諧激光波長(zhǎng)與動(dòng)態(tài)功率控制技術(shù)，完美解決硬脆材料切割時(shí)的崩邊問(wèn)題，崩邊尺寸可控制在 5μm 以下，助力第三代半導(dǎo)體器件的規(guī)?；a(chǎn)。

當(dāng)晶圓切割面臨復(fù)雜圖形切割需求時(shí)，中清航科的矢量切割技術(shù)展現(xiàn)出獨(dú)特優(yōu)勢(shì)。該技術(shù)可精確識(shí)別任意復(fù)雜切割路徑，包括圓弧、曲線及異形圖案，通過(guò)分段速度調(diào)節(jié)確保每一段切割的平滑過(guò)渡，切割軌跡誤差控制在 2μm 以內(nèi)。目前已成功應(yīng)用于光電子芯片的精密切割，為 AR/VR 設(shè)備中心器件生產(chǎn)提供有力支持。半導(dǎo)體生產(chǎn)車間的設(shè)備協(xié)同運(yùn)作對(duì)通信兼容性要求極高，中清航科的晶圓切割設(shè)備多方面支持 OPC UA 通信協(xié)議，可與主流 MES 系統(tǒng)實(shí)現(xiàn)實(shí)時(shí)數(shù)據(jù)交互。通過(guò)標(biāo)準(zhǔn)化數(shù)據(jù)接口，將切割進(jìn)度、設(shè)備狀態(tài)、質(zhì)量數(shù)據(jù)等信息實(shí)時(shí)上傳至管理平臺(tái)，助力客戶實(shí)現(xiàn)生產(chǎn)過(guò)程的數(shù)字化管控與智能決策。中清航科切割耗材全球供應(yīng)鏈，保障客戶生產(chǎn)連續(xù)性。

為提升芯片產(chǎn)出量，中清航科通過(guò)刀片動(dòng)態(tài)平衡控制+激光輔助定位，將切割道寬度從50μm壓縮至15μm。導(dǎo)槽設(shè)計(jì)減少材料浪費(fèi)，使12英寸晶圓有效芯片數(shù)增加18%，明顯降低單顆芯片制造成本。切割產(chǎn)生的亞微米級(jí)粉塵是電路短路的元兇。中清航科集成靜電吸附除塵裝置，在切割點(diǎn)10mm范圍內(nèi)形成負(fù)壓場(chǎng)，配合離子風(fēng)刀清理殘留顆粒，潔凈度達(dá)Class 1標(biāo)準(zhǔn)（>0.3μm顆粒<1個(gè)/立方英尺）。中清航科設(shè)備內(nèi)置AOI（自動(dòng)光學(xué)檢測(cè)）模塊，采用多光譜成像技術(shù)實(shí)時(shí)識(shí)別崩邊、微裂紋等缺陷。AI算法在0.5秒內(nèi)完成芯片級(jí)判定，不良品自動(dòng)標(biāo)記，避免后續(xù)封裝資源浪費(fèi)，每年可為客戶節(jié)省品質(zhì)成本超百萬(wàn)。中清航科晶圓切割代工獲ISO 9001認(rèn)證，月產(chǎn)能達(dá)50萬(wàn)片。鹽城碳化硅線晶圓切割企業(yè)

采用中清航科激光隱形切割技術(shù)，晶圓分片效率提升40%以上。鎮(zhèn)江12英寸半導(dǎo)體晶圓切割寬度

高速切割產(chǎn)生的局部高溫易導(dǎo)致材料熱變形。中清航科開(kāi)發(fā)微通道冷卻刀柄技術(shù)，在刀片內(nèi)部嵌入毛細(xì)管網(wǎng)，通過(guò)相變傳熱將溫度控制在±1℃內(nèi)。該方案解決5G毫米波芯片的熱敏樹(shù)脂層脫層問(wèn)題，切割穩(wěn)定性提升90%。針對(duì)2.5D/3D封裝中的硅中介層（Interposer）切割，中清航科采用階梯式激光能量控制技術(shù)。通過(guò)調(diào)節(jié)脈沖頻率（1-200kHz）與焦點(diǎn)深度，實(shí)現(xiàn)TSV（硅通孔）區(qū)域低能量切割與非TSV區(qū)高效切割的協(xié)同，加工效率提升3倍。傳統(tǒng)刀片磨損需停機(jī)檢測(cè)。中清航科在切割頭集成光纖傳感器，實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)刀片直徑變化并自動(dòng)補(bǔ)償Z軸高度。結(jié)合大數(shù)據(jù)預(yù)測(cè)模型，刀片利用率提升40%，每年減少停機(jī)損失超200小時(shí)。鎮(zhèn)江12英寸半導(dǎo)體晶圓切割寬度